• 1、怎樣測量薄膜厚度

1、怎樣測量薄膜厚度

X射線反射法（XRR）是測量薄膜厚度，分析多層膜結構的正確方法。

XRR范圍問題于測量1-200nm厚度的薄膜，精度可以不提升1-3埃。之外也可以儀器測量薄膜的厚度外，X射線反射法還是可以考慮薄膜的界面粗糙度。

X射線反射法測薄膜厚度可以使用2θ/ω掃描（如圖），入射角ω很小，散射角2θ設置為大約1°，系統掃描的時候，ω=θ從0°正在掃描到10°70左右，實際CCD我們還能夠得到光子數（count）和角度（θ）的關系。

當入射角ω很小的時候，應該是是鏡面掠射，反射率不多是1，緊接著角度的會增大，反射率迅速減少，而薄膜的存在，X射線在薄膜的上下界面分別發生反射，然后疊加過，橫加干涉效應要讓我們仔細的觀察到光子數和入射角與有周期性的漲落（條紋），觀察到的條紋數越多，我們也能換算出的薄膜的厚度也越計算精確。

算出說，發生了什么全反射的爵跡4角θc與薄膜密度的開根成正比，

條紋的周期Δθm和薄膜的厚度d或者，

當M=1，θ>>θc時，

至于條紋的明銳程度會伴隨著界面粗糙度σ的增大而減低。

同時，反射界面粗糙度的增大，會使反射率曲線隨入射角的速度變大越快地衰減作用掉。

現在我們大多使用擬合軟件（諸如GenX）來對待測薄膜建模，按照曲線擬合來我得到待測薄膜的結構參數。

上圖紫色點是實驗結果，藍色的線是對薄膜厚度的擬合結果。

之后送的一個我正在測的Ta薄膜小角X射線反射數據，它的厚度也差不多是35nm。